什么是平場聚焦鏡？指的是工作在物鏡焦平面附近，可以有效減小探測器尺寸的透鏡，一般叫法叫場鏡。準(zhǔn)確來說，場鏡應(yīng)該工作在物鏡的像平面。一方面： 場鏡的物平面和主平面重合，由主平面的特性可知其放大率為1，因此對(duì)系統(tǒng)的放大率無貢獻(xiàn)；另一方面，場鏡應(yīng)該將物鏡的光闌面投影在目鏡的入瞳上，對(duì)于單透鏡而言，光闌面也就是出瞳，這樣可以保證物鏡的出射光能夠最大限度的通過目鏡。如果用在掃描系統(tǒng)中，則探測器替代了目鏡的入瞳。

按照波長分：1064nm場鏡（也叫YAG場鏡）、10.6微米場鏡（也叫CO2場鏡）、532nm場鏡（也叫綠光場鏡）、355nm場鏡（也叫紫外場鏡）。按照設(shè)計(jì)理念分：f-theta透鏡和遠(yuǎn)心透鏡，遠(yuǎn)心透鏡成本很高，在工業(yè)系統(tǒng)中主要適應(yīng)的是f-theta透鏡。

場鏡的功能特點(diǎn)：

（1）提高邊緣光束入射到探測器的能力；

（2）在相同的主光學(xué)系統(tǒng)中，附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積，可擴(kuò)大視場，增加入射的通量；

（3）可讓出像面位置放置調(diào)制盤，以解決無處放置調(diào)制器的問題；

（4）使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化；

（5）當(dāng)使用平像場鏡時(shí)，可獲得平場像面；

（6）在像差校正方面，可以補(bǔ)償系統(tǒng)的場曲和畸變。

場鏡可用來補(bǔ)償系統(tǒng)的場曲和畸變。例如若在像面處加負(fù)場鏡產(chǎn)生的正場曲和正畸變可以補(bǔ)償整個(gè)系統(tǒng)的負(fù)場曲和畸變，而不影響其它像差。

技術(shù)指標(biāo):選用場鏡，主要考慮的技術(shù)參數(shù)是工作波長、入射光瞳、掃描范圍和聚焦光斑直徑。

（1）工作波長：主要是看激光器的波長，場鏡是在給定的激光波長鍍膜的。如果不在給定的波長范圍內(nèi)用場鏡，場鏡會(huì)被激光燒壞的。

（2）入射光瞳：如使用的是單片鏡，反射鏡置于入射光瞳的地方，最大可用光束的直徑等于入射光瞳的直徑。

（3）掃描范圍：場鏡能掃描到的范圍越大，當(dāng)然越受使用者的歡迎。但是如果增加掃描范圍，聚焦光點(diǎn)變大，失真度也要加大。另外加大掃描范圍，場鏡焦距和工作距也要加大。工作距離的加長，必然導(dǎo)致激光能量的損耗。還有聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比，這意味著加大掃描范圍，聚焦光斑直徑跟著加大，光斑聚得不夠細(xì)，激光的功率密度下降非?？欤üβ拭芏雀獍咧睆降?次方成反比），不利于加工。所以使用者要根據(jù)不同的加工面積選用最適合的場鏡，或者備用幾個(gè)不同掃描范圍的場鏡。

（4）聚焦光斑直徑：對(duì)于入射激光束直徑D、場鏡焦距F和光束質(zhì)量因子Q的掃描系統(tǒng)，聚焦光斑直徑d = 13.5QF/D (mm)。所以用擴(kuò)束鏡可以得到更小的聚焦光斑。

本產(chǎn)品主要用于激光打標(biāo)機(jī)、舞臺(tái)燈光中，也可用于科學(xué)試驗(yàn)和激光測量儀器中。

場鏡的主要作用

1、提高邊緣光束入射到探測器的能力；

2、在相同的主光學(xué)系統(tǒng)中，附加場鏡將減少探測器的面積；如果使用同樣的探測器面積，可擴(kuò)大視場，增加入射的通量；

3、使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化。

平場聚焦鏡是激光打標(biāo)機(jī)的重要部件之一，目的是將激光聚焦在整個(gè)工件的打標(biāo)平面上。 主要性能指標(biāo)如下：
 
 1.掃描范圍。 鏡頭可以掃描的區(qū)域越大，當(dāng)然它就越受歡迎。 但是如果盲目增加掃描面積，將會(huì)帶來很多問題。 如光斑變粗，失真增加等。  
 
 2.焦距（與工作距離有一定關(guān)系，但不等于工作距離）。  
 
①掃描范圍與物鏡的焦距成正比。 掃描范圍的增加將不可避免地導(dǎo)致工作距離的增加。 工作距離的延長將不可避免地導(dǎo)致激光能量的損失。  
 
②焦點(diǎn)的直徑與焦距成正比。 當(dāng)掃描區(qū)域達(dá)到一定水平時(shí)，所獲得光斑的直徑非常大，即焦點(diǎn)不夠小，并且激光的功率密度會(huì)很快下降（功率密度與秒數(shù)成反比）。 光斑直徑的最大功率），這不利于加工。  
 
③因?yàn)镕-Theta物鏡使用y'= f *θ的關(guān)系起作用，所以θ和tgθ的實(shí)際值仍然不同。 并且隨著焦距f的增加，畸變程度將變得越來越大。  
 
 3.工作波長。 目前，市場上使用的大多數(shù)是1064nm和10.6um。 但是隨著激光器的發(fā)展，532nm，355nm和266nm的物鏡也會(huì)有相應(yīng)的應(yīng)用。  
 
場鏡的主要評(píng)估因素：
 
 1.平面焦點(diǎn)的均勻性，整個(gè)表面上的焦點(diǎn)越均勻，質(zhì)量就越好。  
 
 2.激光透射率，即功率損耗。 激光透射率越強(qiáng)，功耗越低，質(zhì)量越好。